CAS: 14319-08-5; Tris(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-Heptanedionato)Aluminum
该化合物是化学蒸气沉降(CVD)和原子层沉积(ALD)过程中常用的热稳定,挥发性协调化合物,其纯度高且可预见分解行为使其适合于存放铝氧化薄膜,具有极强的统一性和异质控制. 悬浮性阻力增强了化合物的稳定性,减少了过早分解并改进了处理. 这种前体在半导体和光学涂层应用中特别宝贵,在这些应用中,精确的胶片成分和低杂质水平至关重要. 它在有机溶剂中的溶性进一步促进了基于溶液的沉积技术. 化合物的一贯性能和与工业工艺的兼容性强调了其在先进材料合成中的实用性.
- 英文名称Tris(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-Heptanedionato)Aluminum
- 中文名称三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)铝
- IUPAC名称Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)aluminum
- 其它别名(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)铝; Tris-(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-Heptanedionato)Aluminum
- CAS编号14319-08-5
- MFCD编号:MFCD00058918
- EINECS号:681-083-6
- 分子式:C33H57AlO6
- 分子量:576.78
- 产品CID: 659932
- 产品分类有机原料→催化剂与配体→催化剂→其它金属催化剂
物理性质
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合成工艺路线路线简述
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