CAS: 177080-67-0; 2-Methyladamantan-2-Yl Methacrylate

该化合物是一种有机化合物,其特征是甲基丙烯酸酯功能组,以其具有聚合能力而闻名;该物质具有一个大成的持久性组,其独特的物理和化学特性,例如,与简单的甲基丙烯酸酯相比,其热稳定性和僵化性更高;该物质一般是无色的,可粉黄的,具有一种特质的气味;该化合物溶于有机溶剂,但因其疏水性,其溶解性有限;其聚合作用可以来自热,光或化学发起者,使其在各种应用中有用,包括涂层,粘合剂和作为生产特殊聚合物的单体;此外,该甲基组的存在增强了其抗体,影响由此产生的聚合物的机械特性;在处理该化合物时,应当采取安全防范措施,因为它可能会对皮肤和眼睛产生刺激,因此应当采取适当措施,以避免吸入或摄入.

结构式图片

相似化合物

297156-50-4 209982-56-9 249562-06-9

欧盟法规

C&L通报

上下游产品

CAS号700-58-3 2-金刚烷酮 | CAS号920-46-7 甲基丙烯酰氯 | CAS号702-98-7 2-甲基-2-金刚烷醇 | CAS号79-41-4 甲基丙烯酸 | CAS号875-72-9 2-亚甲基金刚烷 | CAS号75-16-1 甲基溴化镁 | CAS号760-93-0 甲基丙烯酸酐 | CAS号917-54-4 甲基锂 | CAS号108-10-1 甲基异丁基甲酮 | CAS号80-62-6 甲基丙烯酸甲酯

合成工艺路线路线简述

  • 合成目标产物 2-Methacryloyloxy-2-Methyladamantane 主要起始原料 Vinyl Methacrylate And 2-Methyl-2-Adamantanol
  • (文献来源)合成步骤主要原料 Vinyl Methacrylate 和 2-Methyl-2-Adamantanol
甲基丙烯酸,2-亚甲基金刚烷置于三氟化硼乙醚体系中,用 十一烷,甲苯 用作溶剂,化学反应 2.0H,反应生成2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯
参考文献:Process For Producing 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate And 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate
标题:Process For Producing 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate And 2-Methyladamantan-2-Yl (Meth)Acrylate
摘要:本发明的一个目的是提供一种用高分离效率纯化2-甲基孔蚊烷基丙烯酸酯的工艺以及一种具有工业优势的2-甲基孔蚊烷基丙烯酸酯的制备工艺.本发明涉及一种2-甲基孔蚊烷基丙烯酸酯的制备工艺,包括通过酸催化剂使2-亚甲基孔蚊烷和(甲)丙烯酸反应以获得反应混合物,然后从反应混合物中分离出2-亚甲基孔蚊烷以获得2-甲基孔蚊烷基丙烯酸酯,其中在大气压下,在有沸点的有机化合物的存在下,将反应混合物蒸馏,其沸点大于或等于150摄氏度但不大于260摄氏度.

海关参考信息

专利信息


专利号:US-9703192-B2
优先权日:2012-09-15
标 题:Onium compounds and methods of synthesis thereof
发明人:LABEAUME PAUL J
权利人:ROHM & HAAS ELECT MAT
摘要:New onium salt compounds and methods for synthesis of such compounds are provided. Preferred methods of the invention include (a) providing an onium salt compound comprising a sulfonate component having an electron withdrawing group; and (b) treating the onium salt compound with a halide salt to form a distinct salt of the onium compound. The present onium compounds are useful as an acid generator component of a photoresist composition.

专利号:US-7399806-B2
优先权日:2003-06-26
标 题:Synthesis of photoresist polymers
发明人:BENOIT DIDIER; SAFIR ADAM; CHANG HAN-TING; CHARMOT DOMINIQUE; OKAMOTO KENJI; NISHIMURA ISAO; WANG YONG
权利人:SYMYX TECHNOLOGIES INC
摘要:The present invention is directed to the preparation of photoresist polymers via living free radical polymerization techniques. Sterically bulky ester monomers are utilized as the polymerization components. Use of chain transfer agents is included in polymerization processing conditions. Cleavage of polymer terminal end groups that include a heteroatom are described.

专利号:US-2003235777-A1
优先权日:2001-12-31
标题 :Phenolic polymers, methods for synthesis thereof and photoresist compositions comprising same
发明人:GRONBECK DANA A; BARCLAY GEORGE G
权利人:SHIPLEY CO LLC
摘要:The invention provides phenolic polymers, and methods for synthesis and photoresists that comprise such polymers. Synthetic methods of the invention include providing a polymer that contains esterified meta-phenolic units, and removing the ester group preferably by hydrolysis to provide a polymer with meta-phenolic units.

专利号:US-7250475-B2
优先权日:2003-06-26
标 题:Synthesis of photoresist polymers

专利号:US-8043786-B2
优先权日:2003-03-05
标题 :Acid generators, sulfonic acids, sulfonyl halides, and radiation sensitive resin compositions
发明人:EBATA SATOSHI; WANG YONG; NISHIMURA ISAO
权利人:JSR CORP
摘要:The invention provides novel acid generators which are unproblematic in combustibility and accumulation inside the human body and can generate acids having high acidities and high boiling points and exhibiting properly short diffusion lengths in resist coating films and which permit the formation of resist patterns excellent smoothness with little dependence on the denseness of a mask pattern; sulfonic acids generated from the acid generators; sulfonyl halides useful as raw material in the synthesis of the acid generators; and radiation-sensitive resin compositions containing the acid generators. The acid generators have structures represented by the general formula (I), n nwherein R 1 is a monovalent substituent such as alkoxycarbonyl, alkylsulfonyl, or alkoxysulfonyl; R 2 to R 4 are each hydrogen or alkyl; k is an integer of 0 or above; and n is an integer of 0 to 5. Among the radiation-sensitive resin compositions, a positive one contains a resin having acid-dissociable groups in addition to the above acid generator, while a negative one contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent in addition to the acid generator.

专利号:US-2008248418-A1
优先权日:2007-04-04
标 题:Synthesis of fluoroalcohol-substituted (meth)acrylate esters and polymers derived therefrom
常州市启迪化工有限公司
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摘要:Compound: 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 2-methyltricyclo[3.3.1.13,7]dec-2-yl ester, homopolymer
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